氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種，一種為常規(guī)檢漏，另一種為逆擴(kuò)散檢漏。

　　逆擴(kuò)散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進(jìn)入安裝在泵的進(jìn)氣口端的質(zhì)譜管內(nèi)而被檢測(cè)。這一檢漏方式是基于分子泵對(duì)不同質(zhì)量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強(qiáng)與進(jìn)氣口壓強(qiáng)之比)即利用不同氣體的逆擴(kuò)散程度不同程度而設(shè)計(jì)的。

　　逆擴(kuò)散原理如下：

　　逆擴(kuò)散方式檢漏允許被檢件內(nèi)壓強(qiáng)較高，氦質(zhì)譜檢漏儀可達(dá)300Pa(一般常規(guī)檢漏儀為0.05Pa以下)，適合檢大型容器或有大漏的器件，也適合吸槍檢漏。逆擴(kuò)散方式還具有質(zhì)譜管不易受污染，燈絲壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。

　　1、背壓法——測(cè)總漏率

　　電子元器件進(jìn)行氣密性檢測(cè)時(shí)常用背壓法。檢漏前用加壓容器向被檢件壓入氦氣(由壓力和時(shí)間控制壓入的量)，然后取出被檢件，吹去表面吸附氦后放入檢漏罐中，再將檢漏罐聯(lián)接到檢漏儀的檢漏口上，對(duì)檢漏罐抽真空，實(shí)施檢漏。若器件有漏，則通過(guò)該漏孔壓人的氦氣又釋放出來(lái)進(jìn)入檢漏罐，終到達(dá)質(zhì)譜管。用這種方法測(cè)得的漏率也是總漏率。

　　2、輔助真空系統(tǒng)

　　對(duì)子漏氣速率和放氣速率較大或者體積較大的被檢件，若直接與檢漏儀相連，檢漏儀的真空度可能抽不上去，使檢漏儀無(wú)法工作。此種情況須加接輔助真空系統(tǒng)，提高對(duì)被檢件的抽速。簡(jiǎn)單的輔助真空系統(tǒng)只需一個(gè)機(jī)械泵和兩個(gè)閥門，復(fù)雜的系統(tǒng)可由前級(jí)泵、次級(jí)泵、閥門、真空規(guī)及標(biāo)準(zhǔn)漏孔等組成。次級(jí)泵可用擴(kuò)散系或羅茨泵，前級(jí)系較好用氣鎮(zhèn)式機(jī)械泵。

　　3、吸槍法

　　被檢件充入高于大氣壓的探索氣氦，檢漏儀的檢漏口連接稱之為吸槍的氣體采集器。當(dāng)試件有漏時(shí)，泄漏的氦氣被吸槍吸入檢漏儀，而被檢測(cè)。吸槍在試件表面移動(dòng)，同時(shí)注視檢漏儀漏率指示的變化，一旦泄漏增加，吸槍所指位置即漏點(diǎn)所在。因此吸槍法也是能確定漏孔的檢漏方法。

　　4、鐘罩法——測(cè)總漏率

　　將被檢件與儀器檢漏口聯(lián)接抽真空，在被檢件外面罩以充滿氦氣的容器，如被檢件有漏孔，氦氣便由漏孔進(jìn)入被檢件，終達(dá)到質(zhì)譜管被檢測(cè)。所測(cè)漏率是被檢件的總漏率，不能確定有幾個(gè)泄漏點(diǎn)和每個(gè)漏點(diǎn)的準(zhǔn)確位置?？梢钥闯鲧娬址ㄊ腔趪姶捣ǖ囊环N檢漏方法。